光学工艺之微光学设计与杂光分析论坛已截止报名
推荐参加：第十二届中国核电信息技术高峰论坛暨核电行业数字化转型论坛（NITF 2024）

会议时间： 2015-10-21 08:00至 2015-10-21 18:00结束

会议地点：上海详细地址会前通知周边酒店预订

主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司上海讯稷光电科技有限公司

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会议通知

光学工艺之微光学设计与杂光分析论坛将于2015年10月21日在上海召开。

光学工艺之微光学设计与杂光分析论坛

本次论坛概要：

当今炙手可热的科技，包括物联网 (IOT)、3D扫描与打印、穿戴式装置等产品与系统，都与光电技术有不可分离的关系。而随着现在精密制造技术发展，系统产品尺寸也随之急遽缩小，原本根基于几何光学原理的分析与设计已经不敷使用，必须以波动理论加以分析。传统光学仿真软件，无法仿真光与微光学组件的交互作用，必须使用VirtualLab软件，才能完成精确的分析，从而进行诸如光栅、全息组件等微光学组件设计。另外针对一精密光学系统而言，些许杂光就可能就会降低系统的效能，因此，如何分析杂光来源、路径，以及对于主要光学系统效能的影响，这就必须使用FRED软件进行杂光分析，进而减少或消除杂光，以增加系统效能-这是公认的FRED软件的强项功能。本论坛的目的，即针对引领未来趋势的微光学系统：VirtualLab工具，了解如何超越传统几何光学分析，代之以波动光学原理进行微光学组件的分析与设计。同时也应用FRED软件，进行杂光分析，以增进整体光学系统(产品)的效能。

论坛演讲内容安排：

☉ 光学设计的历史沿革 – 从理论到制程
☉ 光学系统的设计与制作 – 从几何光学组件到波动光学组件
☉ 光学系统精密度与灵敏度与杂(散)光的关联
☉ 如何找出系统中的杂光加以分析并予以消除
☉ 微光学组件取代传统光学组件的意义
☉ 微光学分析与设计需要考虑的要点
☉ 范例分析与设计 – 如何以VirtualLab仿真微光学组件以及使用FRED 进行杂光分析

参会对象：对产品技术创新以及现代光学感兴趣的技术人员以及研究所和学校科研和教学人员等，不需要任何软件基础

主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司、上海讯稷光电科技有限公司

会议时间：2015年10月21日

会议地点：上海

主办方：讯技光电科技（上海）有限公司

介绍：讯技科技股份有限公司是一家专业的光电产业研发、顾问服务公司，为广大客户提供全方位的光电产品及整体解决方案。自 1993 年成立以来，公司坚持以专业科技资源为经、专业人才为纬相结合的方针，秉持优质的服务质量和客户至上的精神，将全方位的光电产品及整体解决方案和讯技始终如一的诚信服务推广到每一位客户身边。为了提升服务质量和客户满意度，讯技光电科技(上海)有限公司于2002年通过ISO-9001认证，并于2003年正式成立。

主办方：上海讯稷光电科技有限公司