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首页 > 商务会议 > 加工制造会议 > 2016国际平坦化技术大会 更新时间:2015-12-09 10:31:32

2016国际平坦化技术大会
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2016国际平坦化技术大会 已截止报名

会议时间: 2016-10-17 08:00至 2016-10-19 18:00结束

会议地点: 北京  北京友谊宾馆  海淀区中关村南大街1号 周边酒店预订

主办单位: 平坦化技术联盟(CMPUG-N)

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        会议通知


        为促进平坦化技术领域专家、学者及企业界人士的交流合作,由集成电路材料产业技术创新战略联盟、中国半导体行业协会、中国机械工程学会微纳制造摩擦学专业委员会共同发起的平坦化技术联盟(CMPUG-N)主办的2016国际平坦化技术大会(2016 International Conference on Planarization/CMP Technology,简称 ICPT 2016)将于2016年10月17 -19日在北京召开。

        2016国际平坦化技术大会

        会主席:路新春 教授 (清华大学)

        副 主 席:王雨春 研发副总裁 (安集微电子)

        屈新萍 教授 (复旦大学)

        秘 书 长:石瑛 (集成电路材料产业技术创新战略联盟)

        主要议题:

        CMP设备及测量技术

        CMP耗材

        先进CMP工艺

        CMP建模和仿真

        CMP后清洗工艺与材料

        CMP基本机理

        3D IC中的CMP

        ICPT background
        CMP (chemical mechanical planarization), as one of the most important processes in the semiconductor manufacturing, has been developed and improved continuously year after year. It has built a certain position in related industries, and is expanding in its applied area. From the user's point of view, technical demand is becoming higher and higher, and additional applications beyond the semiconductor area are increasing.
        ICPT (International Conference on Planarization/CMP Technology), is a magnificent opportunity to have discussions on CMP technologies, including FEOL and BEOL CMP, Fundamentals of CMP, Polishing Processes, Consumables, Equipment, 3D/TSV, Metrology, Cleaning, Defect Control, Process Control, etc. The conference provides a place where every relevant researcher and engineer can get together to discuss openly and exchange information widely.

        会议名称:2016国际平坦化技术大会

        会议时间:2016年10月17 -19日

        会议地点:北京

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        主办方:平坦化技术联盟(CMPUG-N)

        会议日程 (最终日程以会议现场为准)


        会议嘉宾 (最终出席嘉宾以会议现场为准)


        Brian Brown

        Engineering from Stanford University

        doctor

        Viorel Balan

        University of Montpellier

        PhD work on chalcogenide glasses thin films

        Yukiteru Matsui

        Toshiba Corp

        currently a chief specialist

        Patrick Ong

        AMD

        Manufacturing Engineer

        Jin-Goo Park

        Hanyang University

        Professor

        Jingxun Fang

        Shanghai Huali Microelectronics Corporation

        currently an Associate Director

        Ahmed Busnaina

        William Lincoln Smith

        Chair Professor

        Chris Chern

        CMPUG-TW

        Chairman of Board Directors

        Manabu Tsujimura

        Ebara Corporation

        Director of the Board

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        会议门票


        Registration Categories Amount Before August 31 Amount After August 31
        Full Rate $450/¥2800 $550/¥3500
        Student $300/¥1800 $300/¥1800
        Additional Proceedings $100/¥600

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        北京友谊宾馆 会议场地:北京友谊宾馆

        介绍:北京友谊宾馆位于海淀区中关村南大街。建于1954年9月,前身是国务院西郊招待所,主要用于接待在京的苏联专家。1956年3月改为现名。1973年3月开始接待旅游外宾。友谊宾馆地处京城新兴的现代化商业科技区,毗邻中国的硅谷及多所科研院校,与京城最大的现代化商城---当代商城,双安商场近在咫尺,是亚洲最大的集旅游、商务、会议、长住为一体的四星级园林式酒店。 酒店占地面积33万5千平方米,绿地面积多达20余万平方米,建筑古朴典雅,具有浓郁的中国民族特色。环境优美、景色怡人。 拥有客房、公寓和写字间1757套;28个风味各异的餐厅、宴会厅可同时容纳2600人就餐;35个不同规格的会议室、多功能厅,一应俱全的商务、康乐设施会令您的商务之旅轻松惬意。 北京友谊宾馆会议,宴会设施设备配套齐全,可承办10至800人会议以及主题宴会,鸡尾酒会,招待会等。训练有素的专业人员确保活动成功举行。会议场地包括:友谊宫聚英厅 (可容纳 800人 )、贵宾楼多功能厅 (可容纳 220人 )和33个不同规格会议室。 所有的会议室及多功能厅均配备先进的视听设备包括:会议室可应需提供大型等离子显示屏、同声传译系统、幻灯机、投影仪、液晶投影仪和实物投影仪。 友谊宾馆位于北三环与中关村大街交汇处,交通极为便利,紧邻北京知名学府,科研机构以及中国的硅谷---中关村。距离机场20公里;距离火车站8公里;距离市中心15公里。

        温馨提示
        酒店与住宿: 为防止极端情况下活动延期或取消,建议“异地客户”与活动家客服确认参会信息后,再安排出行与住宿。
        退款规则: 活动各项资源需提前采购,购票后不支持退款,可以换人参加。

        还有若干场即将举行的 机械加工大会

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        部分参会单位

        主办方没有公开参会单位

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